特許詳細

出願番号	特願2007-550261
登録番号	特許第5145564号
国際特許分類	C08G 18/40 , A61L 27/00 , A61F 2/02 , G02B 1/04
発明名称	自己修復材料
出願人又は権利者	JAIST
研究者	山口　政之　 寺野　稔
研究分野	材料
用途	医療材料 高分子材料 材料
要約 課題	１）製造プロセスがコストパフォーマンスに優れ技術的に簡便で、２）適用対象が本質的に高分子化合物の種類によって制約されず、３）自己修復作用が材料の同一部分においても繰り返し起こり、４）自己修復作用が自律的にかつ形状崩壊等を伴わずに発現する、等の利点を持つ自己修復材料の提供が望まれていた。
要約 解決手段	分子架橋構造に対して多数のダングリング鎖が結合した高分子架橋体であって、高分子架橋構造に対するダングリング鎖の結合量と、高分子架橋構造の架橋点間分子量とが一定の特異的領域内に調整されることにより、高分子架橋構造による材料形状の保持作用とダングリング鎖による自己修復作用とが両立する臨界近傍ゲルの特性を示す、自己修復材料である。
問い合わせ先	JAIST 産学官連携推進センター 0761-51-1070
更新日	2019/10/30