特許詳細
出願番号 | 特願2016-507447 |
登録番号 | 特許第6396425号 |
国際特許分類 | H01L 31/0747 (2012.01), H01L 31/18 (2006.01) |
発明名称 | ヘテロ接合太陽電池とその製造方法 |
出願人又は権利者 | JAIST |
研究者 | 大平 圭介 |
研究分野 | デバイス |
用途 | 製造技術 デバイス装置 電子材料 |
要約 課題 | 従来の、結晶シリコンとアモルファス・シリコンとのヘテロ接合を用いる太陽電池は、現在、最も成功した新構造の太陽電池と認知されているが、今後の一層の効率の向上には、まだなお、幾つかの創意工夫が必要である。 |
要約 解決手段 | 結晶シリコン表層の極浅い領域に、リンまたはボロンがドープされた層を、ホスフィンやジボラン等のリンやボロンを含む原料ガスを1,000°C以上に加熱された金属触媒体線との接触により生成された種に結晶シリコンが曝されることにより350°C以下の低温で形成するという新手法を提案し、上述の技術課題を解決したものである。ここでは、この、新手法を「Cat-doping法」と呼ぶことにする。 |
問い合わせ先 |
JAIST 産学官連携推進センター 0761-51-1070 |
更新日 | 2019/04/25 |