特許詳細
出願番号 | 2014-257596 |
登録番号 | 6470031 |
国際特許分類 | C08J 7/18,C08F 283/02,C08F 2/44 |
発明名称 | グラフト化高分子基材の製造方法 |
出願人又は権利者 | 福井大学 |
研究者 | 堀 照夫 |
研究分野 | 材料 |
用途 | 高分子材料 |
要約 課題 | 本発明は、ポリマーラジカル生成効率の低い高分子基材に対しても効率よくグラフト重合することができるグラフト化高分子基材の製造方法を提供するものである。 |
要約 解決手段 | 本発明に係る製造方法は、所定の厚さの高分子フィルムからなる包装袋内に高分子基材を収容した後内部を減圧して封止することで包装袋を高分子基材に密着した密封状態に設定する密封工程と、包装袋を密着した密封状態に設定された高分子基材に対して放射線を照射する照射工程と、包装袋を開封して水を含むラジカル重合性化合物溶液を所定量注入した後内部を減圧して封止することでラジカル重合性化合物溶液を充填した密封状態に設定する注入工程と、ラジカル重合性化合物溶液を充填した密封状態に設定された高分子基材を所定温度で所定時間グラフト重合を行う後重合工程とを備えている。 |
問い合わせ先 |
福井大学 産学官連携本部 0776-27-8956 |
更新日 | 2017/12/01 |