特許詳細
出願番号 | 2013-231961 |
登録番号 | 6300224 |
国際特許分類 | B01D 67/00,B01D 69/00,B01D 71/28 |
発明名称 | 気体分離膜の設計方法 |
出願人又は権利者 | 福井大学 |
研究者 | 玉井 良則 |
研究分野 | 材料製造 |
用途 | 製造技術 材料 |
要約 課題 | 本発明は、規則正しい空孔構造を有する高分子材料に応力を印加することで、空孔構造を設計して気体から一部の気体分子を選択的に透過させることを可能とする気体分離膜の設計方法を提供することを目的とする。 |
要約 解決手段 | 高分子鎖に沿う軸方向に気体を透過する空孔が形成されたε型結晶からなるシンジオタクチックポリスチレンに対して軸方向と直交する方向から圧縮応力を印加することで、S-I型結晶に構造転移させる。S-I型結晶には、気体分子を収容可能に形成されるとともにジグザグ状に配置された多数の空隙と、空隙よりも狭く形成されるとともに隣接配置された空隙同士を順次連結する多数の連通路とを有する空孔が形成されて、気体の一部の気体分子が選択的に透過するように空孔を設計することができる。 |
問い合わせ先 |
福井大学 産学官連携本部 0776-27-8956 |
更新日 | 2017/12/01 |