特許詳細
出願番号 | 2012-061001 |
登録番号 | 5984110 |
国際特許分類 | C23C 26/00,C23C 8/36 |
発明名称 | 表面処理方法、及び、表面処理装置 |
出願人又は権利者 | 金沢大学 |
研究者 | |
研究分野 | 製造 |
用途 | 表面処理 |
要約 課題 | 被処理物に与える熱的ダメージを抑制するとともに、より高速に熱プラズマによる表面処理を行う。 |
要約 解決手段 | 熱プラズマによって試料の表面処理を行うための表面処理方法であって、コイルに第一の振幅を有する交流電流を流すことによって第一の磁界を前記熱プラズマに印加する第一印加ステップS202と、前記コイルに前記第一の振幅とは異なる第二の振幅を有する交流電流を流すことによって第二の磁界を前記熱プラズマに印加する第二印加ステップS203とを含み、前記熱プラズマ中に配置された前記試料の表面温度を所定範囲内に維持し、かつ、前記熱プラズマの発光スペクトルに含まれる第一の波長成分の強さが、当該第一印加ステップS202と、当該第二印加ステップS203とでは、所定値以上異なるように、当該第一印加ステップS202と当該第二印加ステップS203とが繰り返される。 |
問い合わせ先 |
金沢大学 先端科学・イノベーション推進機構 076-264-6111 |
更新日 | 2017/12/01 |